相位移光罩
依据制程技术发展及需求，相位移光罩(PSM) 可将现有的微影制程加强影像解析能力
台湾光罩目前可提供相位移光罩(Alternating Aperture PSM)提供量产
晶圆级光罩
目前有许多加公司于先进封装技术上已了解光罩于9”，14”应用效益。
9”，14”光罩可提供单次完整曝光于8” (200mm) / 12”(300mm)晶圆。
这样的益处对于加快制程速度及降低制程变异是有帮助的。
目前9”，14”光罩可应用于IC 封装，Probe Cards，微机电制程使用