OPC
使用专业软件去补偿相位与加上分辨率更小的结构在图样的边角上以达到光学邻近效应修正。
OPC校正应用于制程小于0.35um线宽的光罩。藉由提高制程上的光学聚焦深度以及曝光容忍度以达到良率与可靠度提升，进而调高晶圆步进机的优势。 台湾光罩提供非常良好OPC光罩的设计经验。
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