经营方针
- 持续开发集成电路90奈米以下技术所需之光罩
为了配合集成电路公司十二吋晶圆生产90奈米以下之产品，本公司除发展更精进之技术外，本年度亦将适时扩充设备，以配合集成电路技术发展及量产所需。本年度将积极发展ArF光源的相位变换光罩及提供光学外围修衬技术，与下游业者合作开发深次微米制程用光罩，以提升制造技术。
- 大尺寸光罩及特殊光罩投资及开发
在液晶显示器市场上，随着新世代显示屏发展到第十代、十点五代，液晶玻璃越来越大，因此也很难用一片光罩来完成一层黄光制程，而是必须把图案分割成五到六片光罩，利用缝接(stitch)方式完成该层的黄光图形，这也提升了液晶显示屏光罩市场的需求及技术要求。此外，由于封装技术的进步，在晶圆上进行Gold Bump、RDL等制程加工，也都需要光罩来做图案移转。本公司计划深入大尺寸光罩及特殊光罩的市场，加强设备投资及技术开发，以因应此市场之光罩需求。