OPC
使用專業軟體去補償相位與加上解析度更小的結構在圖樣的邊角上以達到光學鄰近效應修正。
OPC校正應用於製程小於0.35um線寬的光罩。藉由提高製程上的光學聚焦深度以及曝光容忍度以達到良率與可靠度提升，進而調高晶圓步進機的優勢。 台灣光罩提供非常良好OPC光罩的設計經驗。
使用專業軟體去補償相位與加上解析度更小的結構在圖樣的邊角上以達到光學鄰近效應修正。
OPC校正應用於製程小於0.35um線寬的光罩。藉由提高製程上的光學聚焦深度以及曝光容忍度以達到良率與可靠度提升，進而調高晶圓步進機的優勢。 台灣光罩提供非常良好OPC光罩的設計經驗。